熒光光譜儀

由光源、激發光源、發射光源、試樣池、檢測器、顯示裝置等組成。熒光光譜儀的組成在硬體上相似的，其差別主要在於硬體材質、儀器精密程度以及部分次要功能上的不同。此外，不同熒光光譜儀所使用的軟體在界面和功能上存在較大的差別。熒光光譜儀的重要的部件包括光源、激發單色器、發射單色器、光電倍增光（Photomultiplier, PMT）以及外聯設備電腦等。圖1為熒光光譜儀的主要組成。

1.熒光激發光譜和熒光發射光譜

2.同步熒光（波長和能量）掃描光譜

3.3D（Ex Em Intensity)

4.Time Base和CWA(固定波長單點測量）

5.熒光壽命測量，包括壽命分辨及時間分辨

6.計算機採集光譜數據和處理數據（Datamax和Gram32)

儀器類別：03030429/儀器儀錶/成份分析儀器/X熒光譜儀

指標信息：

激發光源Xe450W

激發單色儀：4nm/mm,200nm～700nm

發射單色儀：雙色單儀，2nm/mm,300～1000nm

光譜測量範圍：240nm～850nm

靈敏度：水喇曼信噪比4000：1（397nm/5nm bandpass)

壽命響應範圍：10ps～10μs

x射線熒光光譜儀：

主要用途：儀器是較新型X射線熒光光譜儀，具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用於鍊鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，並能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟體FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的最大尺寸要求為直徑51mm,高40mm。

儀器類別：0303040903/儀器儀錶/成份分析儀器/熒光光度計

指標信息：1.發射源是Rh靶X光管，最大電流125mA，電壓60kV，最大功率3kW2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量範圍是ppm～100%4.分析軟體是Philips公司（現為PANalytical）最新版軟體，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計算率N=1483870時， RSD=0.08%穩定性計算率Nmax=6134524,Nmin=6115920,N平均=6125704,相對誤差為0.03%

附件信息：循環水致冷單元，計算機P10氣體瓶空氣壓縮機

優點：靈敏度高，無破壞性和選擇性好。

分析對象主要有各種磁性材料（NdFeB、SmCo合金、FeTbDy）、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等，以及各種形態樣品的無標半定量分析，對於均勻的顆粒度較小的粉末或合金，結果接近於定量分析的準確度。X熒光分析快速，某些樣品當天就可以得到分析結果。適合課題研究和生產監控。

熒光光譜儀被廣泛應用於化學、環境和生物化學領域。

是研究小分子與核酸相互作用的主要手段。通過藥物與核酸相互作用，使DNA與探針鍵合的程度減小，反映在探針熒光光譜的改變，從而可以了解藥物和核酸的作用機理。

熒光光譜儀是研究藥物與蛋白質相互作用的常用儀器。藥物與蛋白質相互作用后可能引起藥物自身熒光光譜和蛋白質自身熒光(內源熒光)光譜以及同步熒光光譜的變化，如熒光強度和偏振度的改變、新熒光峰的出現等，這些均可以提供藥物與蛋白質結合的信息。