拋光液

徠拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，的拋光液具有良好的去油污，防鏽，清洗和增光性能，並能使金屬製品超過原有的光澤。本產品性能穩定、無毒，對環境無污染等作用。

拋光液的酸鹼度就是拋光液的PH值，當拋光液的PH值為9.6時，拋光液的機械作用遠大於化學作用，去除速率比較大，導致拋光后拋光片表面產生高損傷層，粗糙度比較大。

當拋光液的pH值增大為10.84～11.34時，機械作用和化學作用達到一種對等狀態時，此時化學作用的均勻性好，使得表面張力小，質量處理的一致性好，可以得到良好的表面拋光效果；

當pH值大於11.67時，SiO2水溶膠在強鹼的作用下，生成易溶於水的硅酸氨，使得硅溶膠中的SiO2顆粒不能起到磨削作用，變成透明的液體，此時機械作用基本失效，拋光以化學作用為主，表面蝕坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

簡介

特性

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污，防鏽，清洗和增光性能，並能使金屬製品超過原有的光澤。本產品性能穩定、無毒，對環境無污染等作用，光液使用方法：包括棘輪扳手、開口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺絲刀等，鉛錫合金、徠鋅合金等金屬產品經過研磨以後，再使用拋光劑配合振動研磨光飾機，滾桶式研磨光式機進行拋光；1拋光劑投放量為（根據不同產品的大小，光飾機的大小和各公司的產品光亮度要求進行適當配置），2：拋光時間：根據產品的狀態來定。3、拋光完成後用清水清洗一次並且烘乾即可。

英文名

polishing slurry

拋光液

CMP（Chemical Mechanical Polishing）

化學機械拋光

這兩個概念主要出現在半導體加工過程中，最初的半導體基片（襯底片）拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等，但是得到的晶片表面損傷是及其嚴重的。直到60年代末，一種新的拋光技術——化學機械拋光技術（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了舊的方法。CMP技術綜合了化學和機械拋光的優勢：單純的化學拋光，拋光速率較快，表面光潔度高，損傷低，完美性好，但表面平整度和平行度差，拋光后表面一致性差；單純的機械拋光表面一致性好，表面平整度高，但表面光潔度差，損傷層深。化學機械拋光可以獲得較為完美的表面，又可以得到較高的拋光速率，得到的平整度比其他方法高兩個數量級，是目前能夠實現全局平面化的唯一有效方法。

製作步驟

依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等，對硅單晶片化學機械拋光（CMP）機理、動力學控制過程和影響因素研究標明，化學機械拋光是一個複雜的多相反應，它存在著兩個動力學過程：

（1）拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。

（2）拋光表面反應物脫離硅單晶表面，即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。

矽片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程，要獲得質量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大於機械拋光作用，則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大於化學腐蝕作用，則表面產生高損傷層。

參考配方

組分	投料量（g/L ）
硫酸	350~400
硝酸	30~50
雙氧水	30~100
鹽酸	40~80
乙酸	20~50
2- 巰基噻唑啉	1~3
硫酸銅	1~10
壬基酚聚氧乙烯醚	5~10
有機硅消泡劑	1~3
水	余量

拋光液酸鹼度

拋光液的酸鹼度就是拋光液的PH值，當拋光液的PH值為9.6時，拋光液的機械作用遠大於化學作用，去除速率比較大，導致拋光后拋光片表面產生高損傷層，粗糙度比較大；當拋光液的pH值增大為10.84～11.34時，機械作用和化學作用達到一種對等狀態時，此時化學作用的均勻性好，使得表面張力小，質量處理的一致性好，可以得到良好的表面拋光效果；當pH值大於11.67時，SiO2水溶膠在強鹼的作用下，生成易溶於水的硅酸氨，使得硅溶膠中的SiO2顆粒不能起到磨削作用，變成透明的液體，此時機械作用基本失效，拋光以化學作用為主，表面蝕坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

常見產品

拋光液

BD-H201型鋁件化學拋光液

BD-H302型不鏽鋼化學拋光液

BD-H001型低碳鋼常溫化學拋光液：

BD-H001型低碳鋼常溫化學拋光液對低碳鋼工件有良好的拋光效果，最佳效果能達到鏡面光亮，外觀可與裝飾鉻媲美。使用本品拋光，可提高工效，還可縮短鍍鎳時間。

BD-H201型鋁件化學拋光液是專門為提高鋁製品表面光潔度而設計的一種化學拋光液，鋁製品經過本品拋光后，可達到鏡面亮度，可作為鋁製品成品裝飾用，也可作為鋁製品表面處理過程中的中間工序使用。本品為淡藍色透明狀液體。

BD-H302型不鏽鋼化學拋光液不受零件形狀、體積限制，可以改變不鏽鋼製品機械損傷層和應力層，提高機械強度，效率高，表面精飾效果好。

市面常見拋光液

硅材料拋光液、藍寶石拋光液、砷化鎵拋光液、鈮酸鋰拋光液、鍺拋光液、集成電路多次銅布線拋光液、集成電路阻擋層拋光液、研磨拋光液、電解拋光液、不鏽鋼電化學拋光液，不鏽鋼拋光液、石材專用納米拋光液、氧化鋁拋光液、銅化學拋光液、鋁合金拋光液、鏡面拋光液、銅拋光液、玻璃研磨液、藍寶石研磨液、酸性拋光液、鋁材拋光液、金剛石拋光液、鑽石拋光液、單晶體鑽石研磨液、拋光膏

行業概況

供求關係是一個行業能否快速發展的前提。目前來看，市場需求是很大的，而供應方面卻略顯不足，尤其是擁有核心知識產權，產品質量過硬的企業並不多，行業整體缺乏品牌效應。在需求旺盛的階段，行業需求巨大，發展前景好，這是毋庸置疑的。但如何保持行業的健康，穩定且可持續發展，拋麗斯呼籲業內企業共同努力，尤其需要發揮吹毛求疵的研發精神，進一步提高生產工藝，降低成本，真正解決客戶的實際困難，嚴把質量關，提供最可靠的產品。

拋光液

拋光液

簡介

特性

英文名