徐軍

個人簡介

1990年7月畢業於北京理工大學應用物理系，獲理學學士學位；

1993年7月畢業於大連理工大學三束材料改性國家重點實驗室，獲工學碩士學位；

2002年3月畢業於大連理工大學三束材料改性國家重點實驗室，獲理學博士學位；

2002年7月至2003年7月，韓國濟州國立大學納米薄膜材料國家實驗室博士后；

1993年大連理工大學三束材料改性國家重點實驗室，實習研究員；

1995年大連理工大學三束材料改性國家重點實驗室，助理研究員；

2003年大連理工大學三束材料改性國家重點實驗室，副教授。

2008.6 博士生導師

社會兼職

中國物理快報特約評審

研究領域（研究課題）

等離子體技術製備新型薄膜材料，材料表面改性，等離子體診斷。

在等離子體技術合成新材料方面，發明了微波-ECR等離子體增強非平衡磁控濺射技術（已獲國家發明專利）並用該技術進行了CNx、DLC、SiNx、TiN、ZrN、NbN、Cu等多種薄膜的製備研究；博士後期間研究課題為射頻等離子體輔助化學氣相沉積製備low k 互連介質材料SiOCH薄膜，發現大量納米孔洞的形成是降低SiOCH薄膜介電常數的主要機制；在等離子體診斷方面，發現CN激活基團是CNx膜的生長因子，建立了CNx膜的表面反應模型。

獲得國家發明專利：

（1）一種等離子體增強非平衡磁控濺射方法，專利號：ZL01116734.3

（2）用於等離子體診斷的複合探針，專利號: ZL02109519.1

承擔項目：

1、國家自然科學基金重點項目（50135040）：微機電系統若干關鍵機械學問題子課題，微機電系統表面改性；

2、國家自然科學基金與工程物理研究院聯合資助項目（10176005）：異性件表面全方位離子注入技術研究；

3、國家自然科學基金項目（60576022）：ULSI低介電常數CNx薄膜製備及其介電性能的研究；

4、國家自然科學基金項目（50572012）：硼碳氮體系等電子濃度規律及其薄膜合成研究。

碩博研究方向

1.等離子體技術製備功能薄膜材料

2. 等離子體診斷及薄膜生長機理

3. 等離子體源離子注入

出版著作和論文

（1）XU Jun, GAO Peng, DING Wanyu, LI Xin, DENG Xinlu, DONG Chuang, Chemical Structure of Carbon nitride Films Prepared by MW-ECR Plasma Enhanced Magnetron Sputtering, Transaction of Materials and Heat Treatment, 25(5)(2004)818-820.

（2）XU Jun, Chang Shil Yang, Chi Kyu Choi, Annealing Effects on the Structural and Electrical Properties of SiOCH Films with Low Dielectric Constant Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, J. Korean Physical Society, 45(1)(2004)175-179.

（3）XU Jun, Chang Shil Yang, Hae Rim Jang, Chi Kyu Choi, Chemical Structure Evolution of SiOCH Films with Low Dielectric Constant During Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Post-annealing Procedures, J. Electrochemical Society, 150(12)(2003)F206-210.

（4）XU Jun, MA Tengcai, ZHANG Jialiang, DENG Xinlu, Alessio Perrone, Investigation on Optical Emission Spectra during ECR Plasma Enhanced Magnetron Sputtering Carbon Nitride Films Deposition, Int. J. Modern Physics B, 16(2002)1120-1126.

（5） XU Jun, DENG Xinlu, LU Wenqi, MA Tengcai, Characterization of CNx Films Prepared by Twinned ECR Plasma Source Enhanced DC Magnetron Sputtering, Thin Solid Films, 390(1-2)(2001)107-112.

（6） XU Jun, DENG Xinlu, YU Shiji, LU Wenqi, MA Tengcai, Plasma Enhanced Direct Current Planar Magnetron Sputtering Technique Employing a Twinned Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Sources, J. Vacuum Science and Technology A, 19(2)(2001)425-428.

（7） XU Jun, MA Tengcai, LU Wenqi, DENG Xinlu, Deposition of Carbon Nitride Films by Plasma Enhanced DC Magnetron Sputtering Using Twinned Microwave ECR Plasma Source, Journal of the Korean Vacuum Society, 9(1)(2000)95-101.

（8） XU Jun, MA Tengcai, LU Wenqi, DENG Xinlu, A New Method for Thin Film Deposition: Faced Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Sources Enhanced Direct Current Magnetron Sputtering, Chinese Physics Letters, 17(8)(2000)586-588.