電子束曝光是用具有一定能量的電子束照射抗蝕劑，經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的一種微細加工技術。電子束曝光有投影和掃描兩種工作方式。電子束投影方式與光刻過程類似，是將掩模版上的圖形轉換成襯底表面介質的圖形的過程。
電子束曝光是用具有一定能量的電子束照射抗蝕劑，經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的一種微細加工技術。
對正性抗蝕劑，在顯影后經電子束照射區域的抗蝕劑被溶解掉，而未經照射區域的抗蝕劑則保留下來；對
負性抗蝕劑則情況相反。
電子束曝光有投影和掃描兩種工作方式。
電子束投影方式與光刻過程類似，是將掩模版上的圖形轉換成襯底表面介質的圖形的過程。