漫散射

漫散射 màn sǎn shè

[diffusion] 光在粗糙反射面上的反射；光在半透明物質中的傳播

一、簡介

北京正負電子對撞機儲存環I區的Wiggler插入件1W1引出了兩條同步輻射光束線1W1A和1W1B，這兩條光束線位於北京同步輻射裝置12號實驗廳。漫散射實驗站利用1W1A光束線提供的雙聚焦單色X射線，開展晶體及薄膜材料的結構研究。

二、研究範圍

漫散射實驗站可以開展晶體材料中的缺陷，薄膜、多層膜的表面/界面，納米材料結構等研究。

三、 ；研究方法和發展方向

X射線共面衍射/散射，X射線掠入射衍射/散射，X射線反射率/非鏡面散射，X射線掠入射小角散射等。

四、 ；束線結構

1W1A光束線的主要光學元件包括斜切彎晶單色器和平面壓彎反射鏡。斜切彎晶單色器距光源19米，實現1W1A束線的單色化及水平聚焦，並達到與1W1B光束線的分束的目的。平面壓彎反射鏡位於彎晶單色器后1.6米處，用於實現光束的水平聚焦並有效的抑制高次諧波。

五、樣品處的光束性能

單色光能量： 8.05keV，13.9 keV

單色光能量解析度： 4.4 ´ 10-4 (@8.05keV)

聚焦光斑尺寸(mm2）：0.7(l) ´ 0.4(w)

六、實驗站主要設備

⒈ Huber五圓衍射儀、

⒉ ；探測器：NaI探測器、一維位置靈敏探測器等

⒊ ；控制與數據獲取系統：SPEC

七、研究工作和應用成果（參考文獻）

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