氟化鎂膜

氟化鎂膜也稱氟化鎂，具有四方晶繫結構，熔點為1255攝氏度，熱導率0.3W/m·K,折射率1.38，消光係數0。

非晶態氟化鎂薄膜一般可用真空蒸鍍或濺射澱積的方法製得。

單層氟化鎂薄膜可作為增透膜鍍在光學玻璃表面上。由於它的折射率低於光學玻璃的折射率(1.52)，入射光在薄膜的上、下界面反射具有相同的位相變化。若選擇薄膜的光學厚度等於入射光波長的四分之一，則相鄰兩束反射光的位相差恰好是π，所有反射光相疊加的結果可以實現反射相消，因而形成透射增強。例如在折射率1. 52的玻璃表面鍍上單層氟化鎂，增透膜后，中心波長反射率從原來的4.2%降至1.3%左右，而且反射率在可見光(450-760nm)範圍內都小干2%。

一般情況下，為了實現“零反射”，或在較寬的光譜區獲得更好的增透效果，往往採用二層、三層或多層消反膜。例如，在上述玻璃表面鍍上各光學原度滿足要求的三層膜，則在150-800nm的光譜層內，反射率都小於0. 4%；其中在150nm附近以及在650 -700nm波段，反射率接近於零。

氟化鎂是一種無色 四方晶體或粉末，無味，難溶於水和 醇，微溶於稀酸，溶於 硝酸。在電光下加熱呈弱紫色熒光，其晶體有良好的 偏振作用，特別適於紫外線和紅外光譜。有毒性。無色結晶或白色粉末。金紅石型晶格。微有紫色熒光。極微溶於水(18℃，87mG/L)，微溶於稀酸(特別是 硝酸)。相對密度3.18。熔點1248℃。沸點2260℃。致死量(豚鼠，經口)1.0G/kG。有刺激性。

光學透鏡鍍膜。光學器材鍍上一層氟化鎂膜層，可以減少鏡頭界面對射入光線的反射，減少光暈，提高成像質量（薄膜干涉）。另外氟化鎂還應用在陶瓷、電子工業；製造陶瓷、玻璃；冶金鎂金屬的助熔劑；陰極射線屏的熒光材料；焊劑等。