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離子轟擊
離子轟擊
離子轟擊是指在
PVD
(Physic Vaporation Deposition)時離子轟擊基片。
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離子轟擊是指在PVD(physic Vaporation Deposition)時離子轟擊基片,可以幫助基片清潔作用,在沉積時使用還可以提高膜基間附著力!
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