國際商標標誌雙年獎

分別在北京、上海等地成功舉辦LOGO1998、LOGO2000、LOGO2002、LOGO2004、LOGO2006、LOGO2008六屆國際商標節。第七屆國際商標節，即LOGO2010現初步完成作品徵集。

兩年一度的國際商標標誌雙年獎作為ICOGRADA認可的國際性設計獎項，也是商標節的重要活動之一。歷屆評審團均由國際著名設計大師組成，其中有ICOGRADA前主席海爾穆特·朗格、AGI前主席石漢瑞、美國分會主席斯蒂夫·蓋斯布勒、瑞士分會主席尼古拉斯·特羅斯勒、法國AGI成員呂迪·鮑爾、中國AGI會員余秉楠、靳埭強、阿根廷平面協會主席巴布羅·康斯特、香港設計師協會前任主席劉小康等。他們的評選結果代表了當今世界視覺識別設計領域的極高水準，使一批優秀的設計師脫穎而出，並將他們的視覺能量傳播給世界。評選將嚴格遵循雙年獎評選的三大原則進行：作品的原創性、藝術上的完美性、準確傳達內容。

本屆雙年獎所有參賽作品創作時間限定為2006年至2010年，獲獎作品將入選《LOGO國際商標標誌雙年獎年鑒》，並將在國際設計網及相關的宣傳資料中刊登。評選結束后，作品將隨ADC獲獎作品在全國20多個城市巡迴展出，更將通過ADC、ICOGRADA在各國的設計組織與其他國家進行設計交流展覽。

詳情（參賽細則）請參閱相關網站。