石材拋光
專業術語
石材拋光是專業術語,拼音為shí cái pāo guāng,將拋光磨石放在被加工的產品上,用機械設備快速運轉及“干拋光、濕拋光”來達到拋光效果,產品表面會出現很強的反射光,這是通常所說的光澤度。
石材拋光片
拋光的原理主要反映在2個方面:微粒研磨原理;物理化學原理。
1、微粒研磨:當磨料顆粒由粗磨到細磨、拋光時,磨料在石材表面磨削的痕迹由粗到細再到無肉眼看到的痕迹,表面便呈現光滑、平整、細膩,當深度達110微米時,被加工面出現鏡面光澤,光彩照人,色澤鮮艷。
微粒研磨由以下幾道工序組成:
(1)粗磨:要求磨具吃刀量深,磨削效率高,磨削的紋路粗,磨出的表面較粗糙,主要清除產品在前道工序中留有的鋸片痕迹並將產品的平整度,造型面磨削到位;
(2)半細磨:將粗磨痕迹清除,形成新的較細的紋路,產品加工面平整、順滑;
(3)細磨:細磨后的產品花紋、顆粒、顏色已清楚地顯示出來,表面細膩、光滑,開始有微弱的光澤度;
(4)精磨:加工后的產品,無肉眼察覺的痕迹。表面越來越光滑,光澤度約40~50度左右;
(5)拋光:表面明亮如鏡,具有一定的鏡面光澤度(85度以上)。
2、物理化學原理:拋光的過程有2個,即“干拋光與濕拋光”,拋光磨石在“干與濕”之間當石材產品發生物理化學作用,干拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發,導致拋光磨石濃度增大,從而達到強化效果,產品光澤度開始達到了理想要求,光澤度達85度以上或更高。
拋光磨石在被加工產品上拋光,待拋光產品燙手后,將板面加水量水,以起到降溫作用,不允許連續加水或大量加水,否則,水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果,也不能全部使用干拋光,過高的溫度會燒壞板面,而且會使板面出現裂紋。
一般而言,產品精磨后,產品的光澤度在40~50左右,而有些石材精磨后達不到上面的光澤度,如山西黑、黑金砂、集寧黑等,此類產品精磨后的光澤度只有20~30度之間,用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面,這種產品在拋光“干與濕”,溫度的升高,降溫中,強化拋光過程,發生物理化學反應,產品在經過“干拋光、濕拋光”中,光澤度逐步提高,光澤度達85度以上
石材拋光
石材拋光效果取決於兩個方面:一是所採用的拋光技術即“後天”人為的外因;二是石材本身存在“先天”的內因。
(1)拋光劑的類型
拋光劑雖然是一種特殊的磨光材料,但它與磨削材料的區別主要是表現在加工機理上。原則上說,有一些低硬度的微粉材料也可做拋光劑使用。但通常高硬度的拋光劑比低硬度的好,且適用範圍也廣。金剛石拋光粉,對絕大多數石材的拋光,都能取得較為滿意的拋光效果。
(2)拋光液(膏)
水是常用的拋光液。它既可起磨削冷卻的作用,又可作為拋光過程中物理作用和化學作用的介質。
金剛石研磨膏,既有水質的,又有油質的,並且還可以加上著色劑。其配方為:磨料+分散劑+載體+水+著色劑。
(3)、拋光碟(具、磨塊)
規格平整的石材光面板,是石材平面磨削的一種表達加工的表現形式,多採用含有金屬材料製成的硬碟作拋光碟。軟盤拋光的拋光面,在石材受壓時易屈服成一凹面,適用於弧面型拋光。中硬碟的耐磨性,吸附性較好,並具有一定的彈性,對平面型石材拋光的效果也比較好。
(4)、拋光工藝參數
工藝參數有拋光劑的濃度和供給量,拋光時的壓力和線速度等。在小於某一濃度值之前,拋光速度隨拋光劑濃度的增加而增加,濃度值達最大之後,若再增加濃度,拋光速度反而降低。同樣,拋光劑的供給量在一定值時,拋光速度最大,之後若繼續增加供給量,拋光速度反而降低。適當增加拋光時的壓力,可以增加拋光速度,但壓力過大,磨削作用加強,不利於光澤面的形成。拋光速度取決於拋光碟(具)的轉速,但線速度過大,拋光劑將會被甩出,造成浪費。
(5)、前道工序的質量和石材表面的粗糙程度。
如果考慮石材本身所具有的內因,如石質材料的礦物成分,則主要表現為石材拋光的工藝特性。
②大理石中含有一定數量的土礦物,也會影響石材的光澤度。典型的例子是安徽的紅皖螺。岩石名稱為選層石生物灰岩。平行層面鋸切的板材呈花朵型生物紋飾,更似蚌螺,非常美麗,但因為礦石中含有一定數量的粘土礦物成分,拋光后的板材很難達到85以上的光澤度。
④理論上講,不同的礦物應該使用不同的拋光劑。拋光是石材的一種精細加工技術,有人稱表面的增光技術。影響石材拋光的因素很多,既有拋光工藝過程中工藝條件和參數方面的問題,也有拋光劑的種類和輔助材料及拋光碟(具、塊)方面的問題,還和石材礦物組成及其質量有關。