光化學腐蝕

光化學腐蝕 photochemical etching

光化學腐蝕處理中，感光後用溶劑將不需要的抗蝕劑除去，將具有一定圖形的塗層進行固化，再用腐蝕劑對加工的材料進行保護性腐蝕。一般有兩類：一為塗層曝光顯影后，曝光部分溶解，未曝光部分留下；另一為未曝光部分溶解，曝光部分留下。

目前，光化學腐蝕方法在電子工業中被廣泛利用，如集成電路的製造等。