極紫外線光刻機

晶元生產工具

極紫外線光刻機是晶元生產工具,是生產大規模集成電路的核心設備,對晶元工藝有著決定性的影響。小於5納米的晶元晶圓,只能用EUV光刻機生產。

2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一台EUV(極紫外線)光刻機,預計將於2019年初交貨。

背景


阿斯麥公司掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。最新的兩代高端光刻機領域,即浸入式(Immersion)和極紫外線式(EUV)光刻機,全部由阿斯麥掌握核心技術。

功能


極紫外線光刻機
極紫外線光刻機
光刻機(又稱曝光機)是生產大規模集成電路的核心設備,製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,世界上只有少數廠家掌握。光刻機的作用是掃描曝光晶元晶圓,刻蝕集成電路。精度越高的光刻機,能生產出納米尺寸更小,功能更強大的晶元。小於5納米的晶元晶圓,只能用EUV光刻機生產。

價格


光刻機的價格昂貴,通常在3000萬至5億美元不等。
2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一台價值高達1.2億美元的EUV(極紫外線)光刻機。