極紫外線光刻機是晶元生產工具，是生產大規模集成電路的核心設備，對晶元工藝有著決定性的影響。小於5納米的晶元晶圓，只能用EUV光刻機生產。
2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一台EUV（極紫外線）光刻機，預計將於2019年初交貨。
阿斯麥公司掌握了90%以上的高端光刻機市場份額。最新的兩代高端光刻機領域，即浸入式（Immersion）和極紫外線式（EUV）光刻機，全部由阿斯麥掌握核心技術。
極紫外線光刻機
光刻機（又稱曝光機）是生產大規模集成電路的核心設備，製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上只有少數廠家掌握。光刻機的作用是掃描曝光晶元晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機，能生產出納米尺寸更小，功能更強大的晶元。小於5納米的晶元晶圓，只能用EUV光刻機生產。
光刻機的價格昂貴，通常在3000萬至5億美元不等。
2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一台價值高達1.2億美元的EUV（極紫外線）光刻機。
