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磊晶

磊晶

磊晶(英語:Epitaxy),是指一種用於半導體器件製造過程中,在原有晶片上長出新結晶,以製成新半導體層的技術。此技術又稱磊晶成長(Epitaxial Growth);或指以磊晶技術成長出的結晶,有時可能也概指以磊晶技術製作的晶粒。

磊晶技術可用以製造矽電晶體到 CMOS 積體電路等各種元件,但在製作化合物半導體例如砷化鎵時,磊晶尤其重要。

成長技術種類


化學氣相沉積法,英文: Chemical Vapor Deposition (CVD)
主條目:化學氣相沉積
分子束磊晶技術,英文: Molecular Beam Epitaxy (MBE)
在高度真空下在表面沉積新的半導體結晶層的技術。參見真空蒸鍍技術。
液相磊晶法,或稱液態磊晶技術,英文: Liquid Phase Epitaxy (LPE)
固相磊晶,英文: Solid Phase Epitaxy (SPE)

參考文獻


Jaeger, Richard C.. Film Deposition. Introduction to Microelectronic Fabrication. 2nd. Upper Saddle River: Prentice Hall. 2002. ISBN 0-201-44494-1.