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光線跟蹤
光線跟蹤
光線跟蹤是一種真實地顯示物體的方法,該方法由Appel在1968年提出。
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介紹
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光線跟蹤方法沿著到達視點的光線的反方向跟蹤,經過屏幕上每一個像素,找出與視線相交的物體表面點P0,並繼續跟蹤,找出影響P0點光強的所有光源,從而算出P0點上精確的光線強度,在材質編輯中經常用來表現
鏡面效果
。光線跟蹤或稱光跡追蹤是計算機圖形學的核心演演算法之一。在演演算法中,光線從光源被拋射出來,當他們經過物體表面的時候,對他們應用種種符合
物理光學
定律的變換。
基本信息
外文名
Ray tracing
提出時間
1968年
提出者
Appe
學科
光學
又稱
光跡追蹤或光線追跡
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