放射源

用放射性物質製備的小型輻射源

放射源是擬用作致電離輻射源的任何量的放射性物質。放射源是採用放射性物質製成的輻射源的通稱。放射源一般用所製成放射性核素的活度標識其強弱,也可用射線發射率或注量率標識其強弱。習慣上將無損探傷、放射治療、輻射處理所用的高活度或高射線發射率的放射源稱作輻射源(radiation source)。以放射源為基礎的射線應用技術在工業、農業、醫學、資源、環境、軍事、科學研究等領域有廣泛的應用。

基本分類


放射源
放射源
放射源按所釋放射線的類型可分為α放射源、β放射源、γ放射源和中子源等;按照放射源的封裝方式可分為密封放射源(放射性物質密封在符合一定要求的包殼中)和非密封放射源(沒有包殼的放射性物質)絕大多數工、農和醫用放射源是密封放射源,例如:工農業生產中應用的料位計探傷機等使用的都是密封源,如鈷-60、銫-137、銥-192等。某些供實驗室用的、強度較低的放射源是非密封的,例如:醫院裡使用的放射性示蹤劑屬於非密封源,如碘-131、碘-125、鍀-99m等。

核素來源


放射源用的核素的來源主要有四方面:①反應堆輻照生產的,有氚、鐵55、鈷60、鎳63、硒75、銻124、鐿169、銩170、銥192、鉈204、釙210鈈238等;②核燃料后處理得到的,有氪85、鍶90、銫137、鉕147和某些錒系元素如鈈239鎇241、鐦252等;③加速器生產的,有鈉22、鈷57、釔88、鎘109、鉍207等;④天然放射性核素,主要有鈾鐳系中的鐳226。早期的α放射源、γ放射源和中子源主要是用鐳226製成的。鐳226生產困難,價格高,現在多被人工放射性核素代替。

應用領域


前言
以放射源發射出的射線與物質作用所產生的電離、吸收、散射和活化等效應為基礎。
電離
帶電粒子主要通過電離作用把能量轉移給周圍介質。中子γ射線與物質作用產生高能帶電粒子,再進行電離
吸收
射線通過物體時被吸收。測得射線束強度變化,即可由上式確定吸收體的厚度或密度。其應用有透射式同位素密度計、厚度計和料位計等。
射線可使感光膠片感光,根據透過吸收體的射線使感光膠片的感光情況顯示,可以進行射線照相探傷。
散射
β射線、γ射線與物質相互作用會產生散射,其散射角甚至可大於90°,散射的程度與散射體的厚度、密度及原子序數有關。根據這一效應建立的反散射測量儀,可用於測定材料的厚度和密度,特別適用於塗層厚度的測量。

主要危害


放射源
放射源
放射源發射出來的射線具有一定的能量,它可以破壞細胞組織,從而對人體造成傷害。當人受到大量射線照射時,可能會產生諸如頭昏乏力,食慾減退,噁心,嘔吐等癥狀,嚴重時會導致機體損傷,甚至可能導致死亡;但當人只受到少量射線照射時,一般不會有不適癥狀,也不會傷害身體。

程度

國際原子能機構根據放射源對人體可能的傷害程度,將放射源分為5類:Ⅰ類放射源屬極危險源。沒有防護情況下,接觸這類源幾分鐘到1小時就可致人死亡。Ⅱ類放射源屬高危險源。沒有防護情況下,接觸這類源幾小時至幾天可以致人死亡。Ⅲ類放射源屬中危險源。沒有防護情況下,接觸這類源幾小時就可對人造成永久性損傷,接觸幾天至幾周也可致人死亡。上述三類放射源為危險放射源。Ⅳ類放射源屬低危險源。基本不會對人造成永久性損傷,但對長時間、近距離接觸這些放射源的人可能造成可恢復的臨時性損傷。Ⅴ類放射源屬極低危險源。不會對人造成永久性損傷。在我國被盜或失控的放射源多數屬於Ⅳ類放射源或Ⅴ類放射源。

防護

如何防護放射源:放射源發射的射線有:阿爾法射線(α射線)、貝塔射線(β射線)、伽瑪射線(γ射線)、中子射線(η射線)等,它們看不見,摸不著,必須使用專門的儀器才能探測得到。不同的射線在物體中穿透能力也各有不同。一張厚紙可擋住阿爾法射線;有機玻璃、鋁等中有效阻擋貝塔射線;伽瑪射線穿透力較強,可以用混凝土、鉛等阻擋;中子射線需用石蠟輕質材料來阻擋。因此,放射源並不可怕,對放射源無端的恐懼是沒有必要的,特別是那些已經採取了安全保護措施,正常使用的放射源,對人體是基本沒有危害的。防止或減少放射源發出的射線對人體的傷害,主要有以下三種防護手段:一、距離防護;距離放射源越遠,接觸的射線就越少,受到傷害也越小;二、屏蔽防護:選取適當的屏蔽材料(如混凝土、鐵或鉛等)做成屏蔽體遮擋放射源發出的射線;三、時間防護:儘可能減少與放射源的接觸時間。在實際工作中,通常將上述三種防護手段組合應用。

製備方法


放射源
放射源
在設計和製備放射源時要考慮到源的實用性,即輻射種類、能量和強度能符合使用要求,源的有用輻射效率高和源的安全性能好。製備放射源首先是選擇合適的放射性核素,然後再根據其化學性質和源的使用要求確定製備工藝。
活性塊製備
製備密封放射源是先將放射性物質製成活性塊,然後再進行包殼密封。製成的活性塊要求在空氣中穩定,在水中放射性浸出率低。常用的製備活性塊的方法,有玻璃、陶瓷、搪瓷法,粉末冶金法,電鍍法等。
①玻璃、陶瓷、搪瓷法
其共同點是把放射性物質以氧化物的形式和玻璃料、陶瓷料或搪瓷釉料一起燒結而成。所得活性塊的化學穩定性、熱穩定性和耐輻照性能都很好。放射性氧化物或其他化合物和某些金屬混合后,在高溫下形成金屬陶瓷體,具有金屬和陶瓷兩重性,是一種較好的活性塊形式。②粉末治金法(又稱粉末治金-滾軋法)
把放射性金屬陶瓷體經粉末冶金處理后包在金、銀等延展性好的金屬中,在軋機上滾軋成箔源。這種工藝適於生產強度較低的大批量的α源和β源。③電鍍法常用於某些α源、低能β源和低能γ(X)射線源的製備。低能γ(X)射線源又稱低能光子源,包括低能γ源、X射線源和軔致輻射源。除上述方法外,還有一種不需進行化學加工處理的製備活性塊方法,即直接用反應堆輻照過的適當形式和形狀的靶材料製成活性塊。例如常用的鈷60和銥192γ放射源的活性塊就是這樣製成的。包殼密封把源的活性塊密封在相應的包殼裡。包殼材料不僅要便於實施密封,而且還應具有足夠的強度和抗腐蝕等性能,以保證放射源在使用過程中不會破損而使放射性物質散落出來,污染環境。包殼所選用的材料、形狀、規格和密封技術等,一般根據源的射線特點、源的強度及使用條件而定,常用的材料是不鏽鋼。α源、低能β源和低能γ(X)射線源的源窗部分須選用耐輻照的薄材料,以保證具有較高的射線發射效率。高能β源、γ放射源和中子源大多用不鏽鋼包殼,氬弧焊密封。質量控制放射源的質量主要包括源的輻射強度和密封性能。每一個放射源都要進行輻射強度測量,如有必要,還要進行能譜測量。密封放射源應滿足國際標準和國家標準所規定的各類密封放射源的耐溫度、壓力、撞擊、振動和穿刺等項要求。這些檢驗是在源設計試製時進行的。對於正式產品源,除進行強度、能譜測量外,還要逐個進行表面污染和泄漏檢查。從源表面擦下的放射性污染量和泄漏量均不得超過185貝可。應用領域前言以放射源發射出的射線與物質作用所產生的電離、吸收、散射和活化等效應為基礎。電離帶電粒子主要通過電離作用把能量轉移給周圍介質。中子、γ射線與物質作用產生高能帶電粒子,再進行電離。α粒子和低能β粒子的射程短,比電離值高,在較短的射程內可產生大量的離子對,形成高密度的離子云,可用於放射性靜電消除器、離子感煙探測器、電子捕獲鑒定器和真空電子管中所用的電離源等。γ射線有很強的穿透力,能在較大體積內產生電離作用,其應用有輻射消毒、滅菌,食品輻照保藏,輻射育種,放射治療和輻射加工等。吸收射線通過物體時被吸收。β和γ射線束通過吸收體后被減弱的程度可用下式表示:式中I0、I分別為射線束通過吸收體前後的強度值,ρ和d為吸收體的密度和厚度值,μm為吸收體對該射線束的質量吸收係數。測得射線束強度變化,即可由上式確定吸收體的厚度或密度。其應用有透射式同位素密度計、厚度計和料位計等。射線可使感光膠片感光,根據透過吸收體的射線使感光膠片的感光情況顯示,可以進行射線照相探傷。散射β射線、γ射線與物質相互作用會產生散射,其散射角甚至可大於90°,散射的程度與散射體的厚度、密度及原子序數有關。根據這一效應建立的反散射測量儀,可用於測定材料的厚度和密度,特別適用於塗層厚度的測量。快中子與輕元素碰撞,能量迅速降低,待分析材料中如含氫豐富,中子慢化程度就高。根據此原理建立了中子測水分和中子測井(石油)技術。活化低能β粒子與適當的磷光體作用可以發光,根據這種效應已經製成了氚發光粉和氚燈。低能光子可以激發元素髮射特徵X射線,利用配有同位素低能光子源的X射線熒光分析儀可進行元素分析。放射性核素髮射的α粒子和高能γ射線,可誘發輕元素原子核發生(α,n)、(γ,n)核反應。利用這些核反應製成的中子源可用於元素的中子活化分析。但是這類中子源的中子強度比反應堆的低得多,因此只適用於某些高反應截面核素(元素)的活化分析。