金屬硅化物

由於硅原子半徑較大，不能與過渡金屬生成間隙化合物，因而這類硬質化合物化學成分穩定金屬硅化物具有好的抗氧化性。

由於硅與氧生成緻密氧化膜，能夠阻止氧在常溫和高溫對過渡金屬發生氧化作用，因此，硅化物可以作為保護層。多在超大規模集成電路中使用，如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等。

硅化物熔點不高，熱導率高，而抗熱震性好，硬度較高，但脆性也大，有金屬光澤，電阻率低。用途最多的硅化物是MoSi，熔點2030℃，硬度HV1250，抗壓強度2310MPa，MoSi發熱體發熱溫度為1600℃，可長期使用，是空氣氣氛中溫度最高的發熱體之一，用自蔓延鋁熱法製造的彌散AlO，質點的MoSi發熱體，使用溫度可達1800℃，金屬、金屬氧化物加碳和硅反應，可製得硅化物。

常分成兩大類：

(1)難熔金屬硅化物，指周期表IVB、VB、VIB族元素的硅化物，如硅化鈦、硅化鋯、硅化鉭、硅化鎢等；

(2)貴金屬和近貴金屬硅化物，如硅化鈀、硅化鉑、硅化鈷等。

其共同特點是：熔點高（大都在1500℃以上），最低共熔溫度高（大都在1000℃以上）。電阻率低(約為10 Ω·m)，硬度高。

製備方法主要是用淀極金屬與硅的混合物燒結而成。澱積法主要有：蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等。