金屬硅化物

金屬硅化物

金屬硅化物是指過渡金屬與硅生成的硬質化合物。

原理


由於硅原子半徑較大,不能與過渡金屬生成間隙化合物,因而這類硬質化合物化學成分穩定金屬硅化物具有好的抗氧化性。

由於


由於硅與氧生成緻密氧化膜,能夠阻止氧在常溫和高溫對過渡金屬發生氧化作用,因此,硅化物可以作為保護層。多在超大規模集成電路中使用,如用作金屬柵、肖特基接觸、歐姆接觸等。

特性


硅化物熔點不高,熱導率高,而抗熱震性好,硬度較高,但脆性也大,有金屬光澤,電阻率低。用途最多的硅化物是MoSi,熔點2030℃,硬度HV1250,抗壓強度2310MPa,MoSi發熱體發熱溫度為1600℃,可長期使用,是空氣氣氛中溫度最高的發熱體之一,用自蔓延鋁熱法製造的彌散AlO,質點的MoSi發熱體,使用溫度可達1800℃,金屬、金屬氧化物加碳和硅反應,可製得硅化物。

分類


常分成兩大類:
(1)難熔金屬硅化物,指周期表IVB、VB、VIB族元素的硅化物,如硅化鈦硅化鋯硅化鉭硅化鎢等;
(2)貴金屬和近貴金屬硅化物,如硅化鈀、硅化鉑、硅化鈷等。
其共同特點是:熔點高(大都在1500℃以上),最低共熔溫度高(大都在1000℃以上)。電阻率低(約為10 Ω·m),硬度高。

製備方法


製備方法主要是用淀極金屬與硅的混合物燒結而成。澱積法主要有:蒸發、濺射、電鍍、化學氣相澱積等。