金剛石膜是指用低壓或常壓化學氣相沉積(CVD)方法人工合成的金剛石膜。金剛石膜的製備方法有熱化學氣相沉積(TCVD)和等離子體化學氣相沉積(PCVD)兩大類。
diamond film
用低壓或常壓化學氣相沉積(CVD)方法人工合成的金剛石膜。
金剛石的硬度在固體材料中最高，達HV100GPa，熱導率為100W·cm-l·K-1，為銅的5倍，
禁帶寬度為6.6～8.0eV，室溫電阻率高達1016Ω·cm，通過摻雜可以形成
半導體材料。金剛石在從紫外到紅外光頻帶里都有很高的
光學透射率，它還是一種優良耐腐蝕材料。
金剛石膜的製備方法有熱化學氣相沉積(TCVD)和等離子體化學氣相沉積(PCVD)兩大類。現正在研究將研製得到的金剛石膜作
耐磨塗層、聲學膜片、光學窗口、
集成電路高熱導基片。還研究在
矽片上外延
單晶金剛石膜，以製備金剛石器件。