《超大規模集成電路》一書共分為上下兩篇,上篇為基礎設計篇,主要介紹VLSI的特徵及作用、VLSI的設計、邏輯電路、邏輯VLSI、半導體存儲器、模擬VLSI、VLSI的設計法與構成法、VLSI的實驗等;下篇為製造工藝篇,主要介紹集成工藝、平板印刷、刻蝕、氧化、不純物導入、絕緣膜堆積、電極與配線等。
本書內容豐富,條理清晰,實用性強,既可供超大規模
集成 電路研發和設計人員及半導體生產單位管理人員使用,也可作為各院校
集成電路相關專業的本科生、研究生及教師的參考書。
上篇基礎與設計
第1章VLSI的特徵及任務
第2章VLSI的器件
第3章邏輯電路
第4章邏輯VLSI
第5章半導體存儲器
第6章模擬VLSI
第7章無線通信電路
第8章VLSI的設計方法及構成方法
第9章VLSI的測試
下篇製造工藝
第10章LSI的製造工藝及其課題
第11章集成化工藝
第12章平版印刷術
第13章腐蝕
第14章氧化
第15章摻雜
第16章澱積絕緣膜
第17章電極和布線
第18章后工序——封裝
引用·參考文獻