劉彩池
劉彩池
劉彩池:女, 1964年5月生,教授,博士后。2004年被列入教育部新世紀優秀人才支持計劃,河北省新世紀三三三人才,河北省高校中青年骨幹教師,河北工業大學信息功能材料研究所副所長,無機非金屬材料系副主任,中國有色金屬學會半導體材料學術委員會委員,中國電子學會高級會員。研究方向:半導體缺陷工程、半導體光電子材料及應用
半導體缺陷工程、半導體光電子材料及應用
論文及著作:
近年來發表學術論文90餘篇,其中收入三大索引30餘篇,出版(合)譯著1部。
1. Investigation of oxygen precipitation and intrinsic gettering in heavily Sb-doped silicon, Microelectronic Engineering, 66(2003)340 (SCI,EI)
2. Study on the oxygen concentration reduction in heavily Sb-doped silicon, J. Crystal Growth, 196(1999)111 (SCI,EI)
3. Investigation of flow pattern defects in as-grown and rapid thermal annealed CZSi wafers,J. Crystal Growth, 262(2004)1-6 (SCI,EI)
4. Evolution of flow pattern defects in boron-doped <100> Czochralski silicon crystals duringSECCOetching procedure,J. Crystal Growth, 269(2004)310 (SCI,EI)
5. Multivacancy clusters in neutron irradiated silicon, J. Appl. Phys. 78(1995)6458 (SCI,EI)
6. Fast neutron irradiation for Czochralski silicon,Appl. Phys. Lett., 65(22)(1994)2807-8 (SCI)
7. The Marangoni Convection and the Oxygen Concentration in Czochralski-grown Silicon, J. Crystal Growth, 254 (2003) 298 (SCI,EI)
8. Growth of semiconductor crystals under the equivalent micro-gravity, Microelectronic Engineering 66 (2003) 542 (SCI,EI)
9. Growth of Czochralski Silicon under magnetic field, Science in China Ser E, 47(3)(2004)281-292 (SCI)
10. 高溫快速退火對重摻銻硅單晶中流動圖形缺陷的影響, 物理學報,54(10)(2005)4863-4866(SCI)