CMOS邏輯電路
CMOS邏輯電路
CMOS邏輯電路代表互補的金屬氧化物半導體(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor),它指的是一種特殊類型的電子集成電路(IC)。
CMOS是單詞的首字母縮寫,集成電路是一塊微小的矽片,它包含有幾百萬個電子元件。術語IC隱含的含義是將多個單獨的集成電路集成到一個電路中,產生一個十分緊湊的器件。在通常的術語中,集成電路通常稱為晶元,而為計算機應用設計的IC稱為計算機晶元。
雖然製造集成電路的方法有多種,但對於數字邏輯電路而言CMOS是主要的方法。桌面個人計算機、工作站、視頻遊戲以及其它成千上萬的其它產品都依賴於CMOS集成電路來完成所需的功能。當我們注意到所有的個人計算機都使用專門的CMOS晶元,如眾所周知的微處理器,來獲得計算性能時, CMOS IC的重要性就不言而喻了。CMOS之所以流行的一些原因為:
·邏輯函數很容易用CMOS電路來實現。
·CMOS允許極高的邏輯集成密度。其含義就是邏輯電路可以做得非常小,可以製造在極小的面積上。
·用於製造矽片CMOS晶元的工藝已經是眾所周知,並且CMOS晶元的製造和銷售價格十分合理。
這些特徵及其它特徵都為CMOS成為製造IC的主要工藝提供了基礎。
CMOS可以作為學習在電子網路中如何實現邏輯功能的工具。CMOS它允許我們用簡單的概念和模型來構造邏輯電路。而理解這些概念只需要基本的電子學概念。
CMOS邏輯門電路的系列及主要參數:
1.CMOS邏輯門電路的系列
CMOS集成電路誕生於20世紀60年代末,經過製造工藝的不斷改進,在應用的廣度上已與TTL平分秋色,它的技術參數從總體上說,已經達到或接近TTL的水平,其中功耗、雜訊容限、扇出係數等參數優於TTL。CMOS集成電路主要有以下幾個系列。
(1)基本的CMOS——4000系列。
這是早期的CMOS集成邏輯門產品,工作電源電壓範圍為3~18V,由於具有功耗低、雜訊容限大、扇出係數大等優點,已得到普遍使用。缺點是工作速度較低,平均傳輸延遲時間為幾十ns,最高工作頻率小於5MHz。
(2)高速的CMOS——HC(HCT)系列。
該系列電路主要從製造工藝上作了改進,使其大大提高了工作速度,平均傳輸延遲時間小於10ns,最高工作頻率可達50MHz。HC系列的電源電壓範圍為2~6V。HCT系列的主要特點是與TTL器件電壓兼容,它的電源電壓範圍為4.5~5.5V。它的輸入電壓參數為VIH(min)=2.0V;VIL(max)=0.8V,與TTL完全相同。另外,74HC/HCT系列與74LS系列的產品,只要最後3位數字相同,則兩種器件的邏輯功能、外形尺寸,引腳排列順序也完全相同,這樣就為以CMOS產品代替TTL產品提供了方便。
(3)先進的CMOS——AC(ACT)系列
該系列的工作頻率得到了進一步的提高,同時保持了CMOS超低功耗的特點。其中ACT系列與TTL器件電壓兼容,電源電壓範圍為4.5~5.5V。AC系列的電源電壓範圍為1.5~5.5V。AC(ACT)系列的邏輯功能、引腳排列順序等都與同型號的HC(HCT)系列完全相同。
2.CMOS邏輯門電路的主要參數
CMOS門電路主要參數的定義同TTL電路,下面主要說明CMOS電路主要參數的特點。
(1)輸出高電平VOH與輸出低電平VOL。CMOS門電路VOH的理論值為電源電壓VDD,VOH(min)=0.9VDD;VOL的理論值為0V,VOL(max)=0.01VDD。所以CMOS門電路的邏輯擺幅(即高低電平之差)較大,接近電源電壓VDD值。
(2)閾值電壓Vth。從CMOS非門電壓傳輸特性曲線中看出,輸出高低電平的過渡區很陡,閾值電壓Vth約為VDD/2。
(3)抗干擾容限。CMOS非門的關門電平VOFF為0.45VDD,開門電平VON為0.55VDD。因此,其高、低電平雜訊容限均達0.45VDD。其他CMOS門電路的雜訊容限一般也大於0.3VDD,電源電壓VDD越大,其抗干擾能力越強。
(4)傳輸延遲與功耗。CMOS電路的功耗很小,一般小於1 mW/門,但傳輸延遲較大,一般為幾十ns/門,且與電源電壓有關,電源電壓越高,CMOS電路的傳輸延遲越小,功耗越大。前面提到74HC高速CMOS系列的工作速度己與TTL系列相當。
(5)扇出係數。因CMOS電路有極高的輸入阻抗,故其扇出係數很大,一般額定扇出係數可達50。但必須指出的是,扇出係數是指驅動CMOS電路的個數,若就灌電流負載能力和拉電流負載能力而言,CMOS電路遠遠低於TTL電路。
CMOS邏輯門電路是在TTL電路問世之後,所開發出的第二種廣泛應用的數字集成器件,從發展趨勢來看,由於製造工藝的改進,CMOS電路的性能有可能超越TTL而成為佔主導地位的邏輯器件。CMOS電路的工作速度可與TTL相比較,而它的功耗和抗干擾能力則遠優於TTL。此外,幾乎所有的超大規模存儲器件,以及PLD器件都採用CMOS藝製造,且費用較低。早期生產的CMOS門電路為4000系列,隨後發展為4000B系列。當前與TTL兼容的CMOS 器件如74HCT系列等可與TTL器件交換使用。
1.開啟電壓VT
·開啟電壓(又稱閾值電壓):使得源極S和漏極D之間開始形成導電溝道所需的柵極電壓;·標準的N溝道MOS管,VT約為3~6V;·通過工藝上的改進,可以使MOS管的VT值降到2~3V。
2. 直流輸入電阻RGS
·即在柵源極之間加的電壓與柵極電流之比
·這一特性有時以流過柵極的柵流表示
·MOS管的RGS可以很容易地超過1010Ω。
3. 漏源擊穿電壓BVDS
·在VGS=0(增強型)的條件下,在增加漏源電壓過程中使ID開始劇增時的VDS稱為漏源擊穿電壓BVDS
·ID劇增的原因有下列兩個方面:
(1)漏極附近耗盡層的雪崩擊穿
(2)漏源極間的穿通擊穿
·有些MOS管中,其溝道長度較短,不斷增加VDS會使漏區的耗盡層一直擴展到源區,使溝道長度為零,即產生漏源間的穿通,穿通后源區中的多數載流子,將直接受耗盡層電場的吸引,到達漏區,產生大的ID 。
4. 柵源擊穿電壓BVGS
·在增加柵源電壓過程中,使柵極電流IG由零開始劇增時的VGS,稱為柵源擊穿電壓BVGS。
5. 低頻跨導gm
·在VDS為某一固定數值的條件下,漏極電流的微變數和引起這個變化的柵源電壓微變數之比稱為跨導
·gm反映了柵源電壓對漏極電流的控制能力
·是表徵MOS管放大能力的一個重要參數
·一般在十分之幾至幾mA/V的範圍內。
6. 導通電阻RON
·導通電阻RON說明了VDS對ID的影響,是漏極特性某一點切線的斜率的倒數
·在飽和區,ID幾乎不隨VDS改變,RON的數值很大,一般在幾十千歐到幾百千歐之間
·由於在數字電路中,MOS管導通時經常工作在VDS=0的狀態下,所以這時的導通電阻RON可用原點的RON來近似
·對一般的MOS管而言,RON的數值在幾百歐以內。
7. 極間電容
·三個電極之間都存在著極間電容:柵源電容CGS 、柵漏電容CGD和漏源電容CDS
·CGS和CGD約為1~3pF
·CDS約在0.1~1pF之間。
8. 低頻雜訊係數NF
·雜訊是由管子內部載流子運動的不規則性所引起的
·由於它的存在,就使一個放大器即便在沒有信號輸人時,在輸出端也出現不規則的電壓或電流變化
·雜訊性能的大小通常用雜訊係數NF來表示,它的單位為分貝(dB)
·這個數值越小,代表管子所產生的雜訊越小
·低頻雜訊係數是在低頻範圍內測出的雜訊係數
·場效應管的雜訊係數約為幾個分貝,它比雙極性三極體的要小。