非晶硅太陽電池
非晶硅太陽電池
目錄
製造
製造非晶硅太陽電池的方法有多種,最常見的是輝光放電法,還有反應濺射法、化學氣相沉積法、電子束蒸發法和熱分解硅烷法等。輝光放電法是將一石英容器抽成真空,充入氫氣或氬氣稀釋的硅烷,用射頻電源加熱,使硅烷電離,形成等離子體。非晶硅膜就沉積在被加熱的襯底上。若硅烷中摻人適量的氫化磷或氫化硼,即可得到N型或P型的非晶硅膜。襯底材料一般用玻璃或不鏽鋼板。這種製備非晶硅薄膜的工藝,主要取決於嚴格控制氣壓、流速和射頻功率,對襯底的溫度也很重要。
結構
非晶硅太陽電池的結構有各種不同,其中有一種較好的結構叫PiN電池,它是在襯底上先沉積一層摻磷的N型非晶硅,再沉積一層未摻雜的i層,然後再沉積一層摻硼的P型非晶硅,最後用電子束蒸發一層減反射膜,並蒸鍍銀電極。此種製作工藝,可以採用一連串沉積室,在生產中構成連續程序,以實現大批量生產。同時,非晶硅太陽電池很薄,可以製成疊層式,或採用集成電路的方法製造,在一個平面上,用適當的掩模工藝,一次製作多個串聯電池,以獲得較高的電壓。
發展