二硅化鉬

硅化鉬，硅鉬件，形硅化鉬（）、硅化五鉬（）二硅化鉬（）。

硅化鉬二硅化鉬（），頓型屬化合，晶構合呈金屬鍵和共價鍵共存的特徵，具有優良的高溫本質特徵。

早，二硅化鉬屬溫防腐塗層材料，20世紀50年代出現了二硅化鉬電熱元件。

二硅化鉬作為結構材料是在50年代初首次提出的，但直到70年代，隨著脆性材料作為結構材料這一概念的出現，才被重視。80年代發生了飛躍性的進展，其研究工作，在世界範圍內廣泛開展起來。

MoSi是Mo-Si二元合金系中含硅量最高的一種中間相，是成分固定的道爾頓型金屬間化合物。具有金屬與陶瓷的雙重特性，是一種性能優異的高溫材料。很好的高溫抗氧化性，抗氧化溫度高達1600℃以上，與SiC相當；有適中的密度（6.24g/cm）；較低的熱膨脹係數（8.1×10K）；良好的電熱傳導性；較高的脆韌轉變溫度（1000℃）以下有陶瓷般的硬脆性。在1000℃以上呈金屬般的軟塑性。MoSi主要應用作發熱元件、集成電路、高溫抗氧化塗層及高溫結構材料。

在MoSi中鉬與硅之間以金屬鍵結合，硅和硅之間則以共價鍵連結，二硅化鉬為灰色四方晶體。不溶於一般的礦物酸（包括王水），但溶於硝酸和氫氟酸的混合酸中，具有良好的高溫抗氧化能力，可用作高溫（<1700℃）氧化氣氛中工作的發熱元件。

在氧化氣氛中，高溫燃燒緻密的石英玻璃（SiO）的表面上形成保護膜層，以防止二硅化鉬連續氧化。當加熱元件的溫度是高於1700℃，形成SiO保護膜，在熔點為1710℃下稠合，和SiO融合成熔融滴。由於其表面延伸的動作，因此失去其保護能力。在氧化劑作用下，當元素被連續地使用，再次形成保護膜的形式。應當提示的是由於在低溫度的強氧化作用，該元素不能長時間被用於400-700℃溫度環境下。

二硅化鉬的應用於高溫抗氧化塗層材料、電加熱元件、集成電極薄膜、結構材料、複合材料的增強劑、耐磨材料、結構陶瓷的連接材料等領域，分佈在以下幾個行業：

1）能源化學工業：電加熱元件、原子反應堆裝置的高溫熱交換器、氣體燃燒器、高溫熱電偶及其保護管、熔煉器皿坩堝（用於熔煉鈉、鋰、鉛、鉍、錫等金屬）。

2）微電子工業：MoSi與其他一些難熔金屬硅化物TiSi、WSi、TaSi等是大規模集成電路柵極及互連線薄膜重要的候選材料。

3）航空航天工業：作為高溫抗氧化塗層材料得到廣泛而深入的研究和應用。特別是作為渦輪發動機構件，如葉片、葉輪、燃燒器、尾噴管及密封裝置的材料。

4）汽車工業：汽車用渦輪發動機增壓器轉子、氣門閥體、火花塞以及發動機零部件。

二種元素直接反應可製得MoSi。

常溫密閉避光，通風乾燥處。

1、氫鍵供體數量：0

2、氫鍵受體數量：0

3、可旋轉化學鍵數量：0

4、拓撲分子極性表面積（TPSA）：0

5、重原子數量：3

6、表面電荷：0

7、複雜度：18.3

8、同位素原子數量：0

9、確定原子立構中心數量： 0

10、不確定原子立構中心數量：0

11、確定化學鍵立構中心數量：0

12、不確定化學鍵立構中心數量：0

13、共價鍵單元數量：1